分析仪/单晶体高精度定向/芯片加工/多功能机/晶圆/极低含量杂质检测
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全反射X射线荧光分析仪TXRF技术可以对从氧到铀的所有元素进行分析，一次可以对近30种元素进行同时分析，这是原子吸收谱仪中的ETAAS和FAAS方法难以做到的。 一、全反射X射线荧光分析仪介绍 全反射X荧光（TXRF）分析技术是近年来才发展起来的多元素同时分析技术。一种多功能机，TXRF利用全反射技术，使样品荧光的杂散本底比X荧光能量色散谱仪（EXRF）本底降低约四个量级，从而大大提高了能量分辨率和灵敏度，避免了XRF测量中通常遇到的本底增强或减弱效应；同时TXRF技术又继承了EXRF方法的优越性，成为一种不可替代的全新的元素分析方法。该技术被誉为在分析领域是有竞争力的分析手段、在原子谱仪领域内处于地位。 在X荧光谱仪范围内，与波长色散谱仪（RF）方法比较，由于TXRF分析技术用样量很少，也不需要制作样品的烦琐过程，又没有本底增强或减弱效应，不需要每次对不同的基体做不同的基体校准曲线。另外由于使用内标法，对环境温度等要求很低。因而在简便性、经济性、用样量少等方面，都比RF方法有明显的优越性。 TXRF技术可以对从氧到铀的所有元素进行分析，一次可以对近30种元素进行同时分析，这是原子吸收谱仪中的ETAAS和FAAS方法难以做到的。与质谱仪中的ICP-MS和GDMS以及中子活化分析（NAA）等方法相比较，TXRF分析方法在快速、简便、经济、多元素同时分析、用样量少、检出限低、定量性好等方面有着综合优势。 TXRF元素分析仪在元素分析领域内的应用现状和发展前景都是令人鼓舞的。它可以广泛应用于地矿、冶金、化工、食品、生物、医药、环保、法检、考古、高纯材料等等各领域内的常量、微量、痕量元素分析测定。特别在半导体工业中的硅片表面质量控制方面，有着不可替代的优势，目前已在上得到广泛应用。单晶体高精度定向 二、全反射X射线荧光分析仪技术参数 1．地矿：金矿、铜精料和镍精料、萤石、长石、氧化锑 ； 2．冶金：镍电解液、铜阳极泥、高冰镍中的贵金属、光谱Rh、金银首饰、铸铁、轴承 ； 3．化工：柴油中的硫含量，各种催化剂，陶瓷釉药； 4. 环境保护 ：自来水、大气飘尘、污水污泥； 5．生物：海洋动物牙齿和体液 ； 6．医药：头发和指甲中的有益有害元素，丹参中有害微量元素 ； 7．食品：饮料中有益和有害元素 ； 8．刑侦法医：撞车现场样品鉴定 。 三、应用范围 1、多元素同时分析：一次可分析近30种元素； 2、检出限低：zui低检出限：pg级（10-12）；zui低相对检出限：ng/mL级（10-9）； 3、测量元素范围广：可以从11号元素Na到92号元素U； 样品用量少， μL、μg级； 4、粉末样品、悬浮液样品、有平面的固体都可直接进行分析，zui低检出限达到ng/g量级。 5、可以进行无损分析，也可进行无标样分析； 6、测量时间短：一般在10秒－1000秒；
这些仪器,我这里都可以设计加工 ,其中部分可以用于晶体杂质检测, 属于成分分析 用定向仪，可测例图 单晶硅的一个特殊方向切片 人造晶片
硅切片衍射图（X射线衍射仪测量，比定向仪测量范围宽，效果好）
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玛瑙切片
水晶切片
