南大光电“先进光刻胶产品开发与产业化”项目通过专家组验收

目前来看，南大光电的光刻胶项目进展比较顺利，据公司7月29日下午披露，其承担的“先进光刻胶产品开发与产业化”项目（以下简称光刻胶项目）通过了专家组验收。从经营数据上看，南大光电的光刻胶项目距离量产还需时日。但在二级市场上，公司股票早已受到资金的大力追捧。5月末以来，公司股价累计涨幅超过150%。

光刻胶项目通过验收

据南大光电披露，公司今日收到极大规模集成电路制造装备及成套工艺实践管理办公室下发的项目综合绩效评价结论书，公司作为牵头单位，承担的“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”之光刻胶项目通过了专家组验收。

据悉，光刻胶项目总体目标是开发高端集成电路制造用ArF干式与浸没式光刻胶成套工艺技术，形成规模化生产能力；构建与集成电路行业国际先进水平接轨的技术和管理人才团队等等。项目分为三个子课题，南大光电控股子公司宁波南大光电材料有限公司（以下简称宁波南大光电）承接了其中的“ArF光刻胶产品的开发和产业化”课题。

专家组评定后认为，通过项目的实施，宁波南大光电掌握了ArF干式和浸没式系列光刻胶产品的原材料制备、配胶、分析检测、应用验证等关键技术，在知识产权和人才培养等方面取得重要进展。形成了由51人组成的ArF光刻胶研发与生产管理团队，建成了ArF光刻胶产品的质量控制平台、年产5吨的干式ArF光刻胶及年产20吨的浸没式ArF光刻胶产业化生产线。实现ArF光刻胶产品销售，完成了任务合同书规定的主要考核指标。

“这是我国集成电路关键材料自主创新的一个重要成果。”专家组表示，宁波南大光电应该在已建成的年产 25吨ArF光刻胶产业化基地基础上，抓住机遇，进一步扩大生产能力。

ArF光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料，可以用于90nm~14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺，主要应用于高端芯片制造。长期以来，全球高端光刻胶市场被以日本合成橡胶、东京应化、信越化学、富士电子材料等为代表的国外技术垄断，我国高端光刻胶领域进口替代需求较为紧迫。

南大光电表示，项目研发任务的圆满完成，预计将对公司光刻胶事业的未来发展产生积极影响。