TCL华星开发新技术，实现大于1000PPI的全色大面积量子点图案化彩膜及高性能
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创新中心联合南科大，北大近日以“Large-AreaPatterning of Full-Color Quantum Dot Arrays Beyond 1000 Pixels Per Inch bySelective Electrophoretic Deposition”为题，在国际著名期刊《自然-通讯》（Nature Communications）在线发表相关研究论文。 量子点材料具有尺寸可控、发射波长可调、发射光谱窄、发光效率高等优点，近年来受到了广泛的关注。作为一种半导体功能材料，其在显示器件、照明器件、光伏太阳能电池、光电探测器等领域均具有巨大的应用潜力。 据介绍，到目前为止，各种各样的技术已经被应用于加工图案化和像素化的 QD 器件上，例如光刻、喷墨打印、Stamp 转移、微接触打印、纳米压印等，但是这些方法分别存在着诸如紫外光和溶剂影响 QD 性能，加工工艺复杂，加工时间长，器件效率低，重复性差等缺点。因此，改进和发展新型量子点图案化技术对于 QD 的商业化应用是至关重要的。 研究团队受到偏振发光的量子棒有序化需要高频率交变电场驱动，否则将发生沉降现象的启发，通过分析发现，由无机半导体核和有机配体壳组成的胶体 QDs，其配体可能在溶液中解离，因此 QDs 表面可能富含阴离子或阳离子，带电的 QD 可以在电场的作用下沉积到相反电性的电极上。 基于此，研究团队利用高分辨率光刻微电极技术结合温和的电沉积技术开发了一种新型的 QD 选择性电沉积 (SEPD) 图案化技术，实现了单电极上高效、均匀、大面积的全色 QD 图案化薄膜制备。
▲电沉积制备 QD 图案化薄膜的形貌和尺寸特征 通过合理的溶剂和配体设计，研究团队首先获得了单一电性的 QDs，有效地避免了正负电极同时沉积以及多色量子点沉积时的交叉污染。 所制备的 QD 薄膜具有可控的、均匀的特征尺寸（2μm—20μm），可以沉积成任意形状的图形，同时薄膜具有良好的形貌、有序的结构和良好的光学性能，其表面形貌、堆积密度和折射率（N=1.7-2.1）可以进行大范围的调整，从而获得不同条件下所需的量子点薄膜，并实现比传统溶液处理方法（旋涂和喷墨打印）更高的 PL 发光效率。通过调节电沉积电压和量子点浓度，可以在数纳米到数十微米的范围内精确调节图案化量子点薄膜的厚度。
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