等离子清洗设备原理

等离子清洗设备原理是利用等离子体技术对工件进行表面处理的设备，那么它的原理是什么样的呢？

在高频电场下，气体分子被电离形成等离子体，等离子体由离子、电子、自由基等组成，它们轰击产品表面或与之发生反应，从而达到去除表面有机物、无机物、氧化物等污染物的目的。

形象点讲就是，高能电场下，气体分子吸收了大量能量形成等离子体，低离子体中的各种微粒轰击在产品上，污染物被撞击脱落，或分解或转换成其它物质，如：碳化物反应生成一氧化碳、二氧化碳，氧化物反应生成水分子等等，这些都将通过真空泵抽离，通过物理、化学的多种反应，等离子清洗设备完成了清洗的工作。

需要注意的是，很多厂家需求的不是清洗工件表面的污染物，而是它表面活化、改性的效果，通过这种方式解决产品表面粘接力不够、亲水性一般、涂覆效果差等问题。等离子体是如何做到呢？

等离子体中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的键能在0~10eV，因此等离子体作用到产品表面时，它原本的化学键会发生断裂，产生新的结构，表面粗糙度提高，引入新的官能团，如烃基、氨基、羧基等，这些官能团都是活性基团，表面的活性也得到变化。