等离子清洗机工艺气体如何选择才正确，快来了解下！

等离子清洗机在使用中，最重要的就是工艺气体，不同的产品、不同的清洗要求，需要使用不同的配方进行清洗；气体的种类是非常多的，等离子清洗机常用的气体有哪些呢?

氧气：主要清洗物体表面的有机物，发生氧化反应。例如,有机污染物可以有效地用氧气等离子去掉,这里氧气等离子与污染物反应,产生二氧化碳、一氧化碳和水。

氩气：物理轰击是氩气清洗的机理。氩气是最有效的物理等离子体清洗气体,原因在于它原子的尺寸大。可以用很大的力量轰击样品表面。正的氩离子将被吸引到负向电极板。撞击力足以去除表面上的任何污垢。然后这些气态污物通过真空泵排出。

氮气：氮气电离形成的等离子体能够与部分分子结构发生键合反应，所以也是一种活性气体，但相对于氧气和氢气而言，其粒子比较重；在清洗活化的同时能够达到一定轰击、刻蚀的效果，同时能够防止部分金属表面出现氧化。

氢气：氢气可供去除金属表面氧化物使用。 它经常与氩气混合使用,以提高去除速度。一般人们担心氢气的易燃性,氢气的使用量非常少。人们更大的担心是氢气的存储。我们可以采用氢气发生器从水中产生氢气。从而去掉了潜在的危害性。

CF4：氟化的气体在半导体工业以及PWB (印制线路板)工业中应用非常广泛。在IC封装中的应用只有一种。这些气体用在PADS工艺中,通过这种处理,氧化物转化成氟氧化物,允许无流动焊接。

以上5种气体是等离子清洗机行业常用的工艺气体，在使用中需要注意气体的调整，多次测试找到合适的配方，获得好的处理方案，提高生产效率和良品率。

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