浅说大气射流等离子清洗机的技术发展！

当前，微电子工业中应用到的等离子清洗机大多是在真空条件下来完成的。真空环境的等离子清洗机对产品表面处理均匀性提供了保证。但是，等离子清洗机为满足真空条件，所需要的投入在整个项目的投资方面占了很大的比例。因此，为了摆脱对真空环境的依赖，在大气压条件下获得均匀放电等离子体的问题在20世纪80~90年代被提到了议事日程，并在全球范围内形成了巨大的研究热潮，为大气射流等离子清洗机的发展提供了良好基础，大气射流等离子体有哪些发展节点呢？接下来为大家普及相关内容：

1 大气压非热力平衡态冷等离子体射流（n-TECAPPJ）装置的前身

20世纪90年代初，Koinuma等开发出了一种微束等离子体装置。该装置放弃了大面积均匀性的要求，在直径2mm的范围内，采用CF(1%)/He作为放电气体和70W的射频功率，在硅片上本得了5nm/s的刻蚀速率。这种装置可以认为是n-TECAPPJ所用装置的前身。

由于其消耗的平均功率非常小，所产生的等离子体射流对环境以及被处理材料表面几乎没有什么热效应，因此可以将其称为“冷等离子体射流”。射频与高频放电等离子体的产生机理是有所不同的；从应用的角度来看，高频电源更便宜，相关装置的设计与制造更间单，因此更实用，从近十年的文献分析来看，这类装置的结构大多采用了在惰性气体(或以惰性气体为主掺入一些活性气体)气流通道上形成DBD。

2 等离子体zidan现象的发现以及相关研究的成果

2005年，Teschke等以及Kedzierski等发表了两篇论文，展示了用ICCD(像增强电荷耦合传感器)拍摄的氦大气压等离子体射流的照片，发现了“等离子体zidan”(plasma bullets)的现象。自此有关等离子体zidan相关的研究论文如雨后春笋般涌现出来，Lu和Laroussi发现等离子体zidan现象与具体的电极构型无关，同时为了解释这种发生在氦气流通道中的等离子体zidan现象，提出了一种光子预电离机制，但仍有很多相关问题未得到解决。