国产浸没式光刻机关键子系统产业化获新突破

半导体产业获悉，近期，浙江启尔机电技术有限公司捷报频传，高端集成电路装备迭代至第8代，高精度液体温控误差不超过正负0.001度，零部件中试基地也正式启用，组件试验进展顺利。

报道称，启尔机电承担浸没式光刻机浸液控制系统国产化重任，浸液系统则是浸没式光刻机的四大核心部件之一，此前相关技术长期被控制在少数国际巨头手中。

自2004年以来，启尔机电研发团队通过863计划、重大专项及整机企业上海微电子的持续支持，对光刻机浸液系统开展了十余年的基础研究和技术攻关，承担相关研究项目10余项，获得授权发明专利100余项，其中与光刻机浸液系统直接相关的发明专利56项。