Toppan Photomask与EV Group达成合作

　　全球首屈一指的光掩模供应商Toppan Photomask Co. Ltd.与为MEMS、纳米技术和半导体市场提供晶圆键合及光刻设备的领先供应商EV Group(简称EVG)今天宣布，两家公司已达成协议，共同推广赋能光电产业的大批量制造(HVM)工艺—纳米压印光刻技术(NIL)。

　　此次合作结合NIL系统的领先供应商和开创者与半导体市场的光掩模领先供应商的优势，旨在确立NIL为光电制造的行业标准生产工艺，并加速其在HVM中实施，以支持各种应用。这些应用包括增强/混合/虚拟现实耳机、智能手机、汽车传感器和医疗成像系统。

　　作为此次非排他性合作的一部分，EVG和Toppan Photomask将结合各自的知识、专长和服务，利用Toppan Photomask提供的主模板和EVG提供的设备及工艺开发服务，提供NIL开发工具包，以进一步推广NIL技术并提高将该技术应用于工业生产的可能性。EVG还将在其位于奥地利总部的EVG NILPhotonics®能力中心，面向感兴趣的公司提供NIL技术和产品演示。此外，对于有意在生产过程中使用NIL技术的企业，两家公司都将对方指定为首选推荐的供应链合作伙伴。

　　Toppan Photomask Co. Ltd.首席技术官全灿旭(Chan-Uk Jeon)表示：“Toppan Photomask非常高兴能与EVG合作。EVG的NIL工具和加工能力是世界一流的，将提高光电技术和其他将采用NIL技术的新技术成本效益。Toppan Photomask认为，两家公司都具有显著的优势，在此推动下，NIL技术有着良好的发展前景，有望成为另一种成功的光刻解决方案。”